Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1519230
Art A1
30. März 2005
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1519230
- Aktenzeichen
- EP03256095
- Anmeldetag
- 29. September 2003
- Veröffentlichung
- 30. März 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon