Nitrid-Halbleitersubstrat und Herstellungsverfahren dafür
EP1521310
Art A3
26. Januar 2011
Anmelder: Sumitomo Electric Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1521310
- Aktenzeichen
- EP04021388
- Anmeldetag
- 8. September 2004
- Veröffentlichung
- 26. Januar 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B25/18C30B29/40H01L21/20H01L21/205H01L21/02// H01L33/00H01L33/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sumitomo Electric Industries, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumitomo Electric Industries
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.
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