Vorrichtung und Verfahren zur Messung Kritischer Abmessungen mittels eines Teilchenstrahls
EP1523671
Art A2
20. April 2005
Anmelder: Applied Materials, Inc., Applied Materials Israel Ltd. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1523671
- Aktenzeichen
- EP03764488
- Anmeldetag
- 11. Juli 2003
- Veröffentlichung
- 20. April 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N23/225G06T11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Applied Materials, Inc.
Applied Materials Israel Ltd. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.783 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Zimmermann, Gerd Heinrich
München, Deutschland
751
Patente gesamt
31
Fachgebiete
7
Anmelder-Länder
Schwerpunkte