Plasmaimplantierungssystem und Verfahren mit Target-Bewegung

EP1523756 Art A2 20. April 2005

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1523756
Aktenzeichen
EP03765701
Anmeldetag
17. Juli 2003
Veröffentlichung
20. April 2005
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/32H01L21/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Varian Semiconductor Equipment Associates Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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