Spiegel für ein Lithographiegerät, Lithographiegerät mit einem solchen und Verfahren zur Herstellung eines Bauteils
EP1526550
Art A1
27. April 2005
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1526550
- Aktenzeichen
- EP03078316
- Anmeldetag
- 20. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 27. April 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G21K1/06G02B1/10G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
van Westenbrugge, Andries
Den Haag, Niederlande
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