Lithographischer Apparat und Vorrichtungs-Halteverfahren
EP1530089
Art B1
6. April 2011
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1530089
- Aktenzeichen
- EP04077936
- Anmeldetag
- 25. Oktober 2004
- Veröffentlichung
- 6. April 2011
- Erteilung
- 6. April 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/68
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Raukema, Age
Veldhoven, Niederlande
119
Patente gesamt
19
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Winckels, Johannes Hubertus F
NoneDen Haag