Lochmaske und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP1531360
Art B1
2. Januar 2008
Anmelder: Sony Corporation, ROHM CO., LTD., SONY CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1531360
- Aktenzeichen
- EP04292683
- Anmeldetag
- 12. November 2004
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2008
- Erteilung
- 2. Januar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Sony Corporation
ROHM CO., LTD.
SONY CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sony Group
Japanischer Technologie- und Unterhaltungskonzern mit Sitz in Tokio. Sony entwickelt Unterhaltungselektronik, Bildsensoren, Spielesysteme sowie Musik- und Filmangebote.
30.400 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Rohm
Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).
837 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Thévenet, Jean-Bruno
Paris, Frankreich
1.392
Patente gesamt
32
Fachgebiete
18
Anmelder-Länder
Schwerpunkte