Lochmaske und Methode zu ihrer Herstellung

EP1531361 Art A3 21. Dezember 2005

Anmelder: Sony Corporation, ROHM CO., LTD., SONY CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1531361
Aktenzeichen
EP04292684
Anmeldetag
12. November 2004
Veröffentlichung
21. Dezember 2005
Rechtsraum
EP
IPC
G03F1/16
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Sony Corporation
ROHM CO., LTD.
SONY CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sony Group

Japanischer Technologie- und Unterhaltungskonzern mit Sitz in Tokio. Sony entwickelt Unterhaltungselektronik, Bildsensoren, Spielesysteme sowie Musik- und Filmangebote.

30.400 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Rohm

Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).

837 Patente in unserer Datenbank

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