Verfahren und Vorrichtung zum Chemischen, Mechanischen Und/oder Elektrischen Entfernen von Schichten von Mikroelektronischen Substraten
EP1532222
Art A1
25. Mai 2005
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1532222
- Aktenzeichen
- EP03791834
- Anmeldetag
- 27. August 2003
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09K3/14H01L21/321H01L21/3105H01L21/3063
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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