Verfahren und Vorrichtung zum Chemischen, Mechanischen Und/oder Elektrischen Entfernen von Schichten von Mikroelektronischen Substraten

EP1532222 Art A1 25. Mai 2005

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1532222
Aktenzeichen
EP03791834
Anmeldetag
27. August 2003
Veröffentlichung
25. Mai 2005
Rechtsraum
EP
IPC
C09K3/14H01L21/321H01L21/3105H01L21/3063
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Micron Technology, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

3.194 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen