Vorrichtungen und Verfahren zum Bilden von Metalloxiden aus Metall-Organo-Aminen und Metall-Organo-Oxiden

EP1532291 Art B1 24. September 2014

Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1532291
Aktenzeichen: EP03791827
Anmeldetag: 27. August 2003
Veröffentlichung: 24. September 2014
Erteilung: 24. September 2014
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/40H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von