Optisches Projektionssystem, Photolithographische Methode, Belichtungsapparat und Belichtungsmethode unter Verwendung Dieses Belichtungsapparats
EP1532489
Art A2
25. Mai 2005
Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1532489
- Aktenzeichen
- EP03792812
- Anmeldetag
- 22. August 2003
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NIKON CORPORATION
Nikon Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München