Verfahren zur Herstellung eines Silizium-Epitaxialwafers

EP1533836 Art A1 25. Mai 2005

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1533836
Aktenzeichen
EP03791226
Anmeldetag
19. August 2003
Veröffentlichung
25. Mai 2005
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/205C23C16/24C23C16/44
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

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