Verfahren zur Herstellung von Substraten, insbesondere für die Optik, Elektronik und Optoelektronik

EP1537258 Art B9 29. Oktober 2008

Anmelder: S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1537258
Aktenzeichen
EP03763891
Anmeldetag
16. Juli 2003
Veröffentlichung
29. Oktober 2008
Erteilung
29. Oktober 2008
Rechtsraum
EP
IPC
C30B33/00H01L21/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies

S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies war ein französischer Hersteller von Silizium-auf-Isolator-Wafern für die Halbleiterindustrie, das heutige Unternehmen firmiert als Soitec. Der Patentbestand konzentriert sich fast ausschließlich auf Halbleiterbauelemente und Waferbondverfahren.

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