Fluorierte Monomere, Fluorierte Polymere mit Polycyclischen Gruppen mit Annelierten 4-Gliedrigen Heterocyclischen Ringen, die zur Verwendung als Photoresists geeignet Sind, und Mikrolithographieverfahren
EP1539690
Art A2
15. Juni 2005
Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1539690
- Aktenzeichen
- EP03785132
- Anmeldetag
- 8. August 2003
- Veröffentlichung
- 15. Juni 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07D205/12C07D305/14C07D493/10C08F232/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- E. I. du Pont de Nemours and Company
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
DuPont
US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.
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Towler, Philip Dean
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