Methode und System zur Detektion und Lokalisation von Metallrückständen in einer Sequenz Multipler Schritte

EP1540327 Art A1 15. Juni 2005

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1540327
Aktenzeichen
EP03752231
Anmeldetag
10. September 2003
Veröffentlichung
15. Juni 2005
Rechtsraum
EP
IPC
G01N27/72
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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