Gitter Basierter Spektraler Filter zur Unterdrückung von Strahlung Ausserhalb des Nutzbandes in einem Extrem-Ultraviolett Lithographiesystem
EP1540423
Art B1
28. März 2007
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1540423
- Aktenzeichen
- EP03790838
- Anmeldetag
- 30. Juli 2003
- Veröffentlichung
- 28. März 2007
- Erteilung
- 28. März 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B5/18G01J3/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Kanzlei
Sawodny Patentanwalt
Ulm, Deutschland
Sawodny Patentanwalt (Dr. Michael Sawodny), Teil des Kanzleiverbunds AKLaw mit Standorten in München und Ulm. Seit 1995 im Patent- und Markenrecht tätig, seit 1996 als European Patent and Trademark Attorney, mit Schwerpunkten in Materialwissenschaften, Optik und Maschinenbau.
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