Resist und Verfahren zur Bildung von Resistmustern

EP1541543 Art A1 15. Juni 2005

Anmelder: NEC Corporation, Tokuyama Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1541543
Aktenzeichen: EP03794216
Anmeldetag: 4. September 2003
Veröffentlichung: 15. Juni 2005
Rechtsraum: EP
IPC: C07C43/225G03F7/038G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NEC Corporation
Tokuyama Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

19.509 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von