Tantal-Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür

EP1541708 Art B1 27. Oktober 2010

Anmelder: Nippon Mining & Metals Co., Ltd., Nikko Materials Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1541708
Aktenzeichen
EP03797517
Anmeldetag
29. Juli 2003
Veröffentlichung
27. Oktober 2010
Erteilung
27. Oktober 2010
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/34C22F1/18
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Nikko Materials Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nippon Mining & Metals

Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.

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