Tantal-Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP1541708
Art B1
27. Oktober 2010
Anmelder: Nippon Mining & Metals Co., Ltd., Nikko Materials Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1541708
- Aktenzeichen
- EP03797517
- Anmeldetag
- 29. Juli 2003
- Veröffentlichung
- 27. Oktober 2010
- Erteilung
- 27. Oktober 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C22F1/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Nikko Materials Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nippon Mining & Metals
Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.
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Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
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