Verfahren zur Bildung eines Hügels auf einer Elektrodenkontaktstelle mit Hilfe eines Doppelschichtfilms
EP1542520
Art A1
15. Juni 2005
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1542520
- Aktenzeichen
- EP03792769
- Anmeldetag
- 21. August 2003
- Veröffentlichung
- 15. Juni 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05K3/28H05K3/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Leson, Thomas Johannes Alois, Dipl.-Ing
München, Deutschland
4.590
Patente gesamt
34
Fachgebiete
21
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TBK-Patent · München