Photoresists, Fluorierte Polymere und Verfahren zur 157-Nm-Mikrolithographie
EP1546222
Art A1
29. Juni 2005
Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1546222
- Aktenzeichen
- EP03794464
- Anmeldetag
- 8. August 2003
- Veröffentlichung
- 29. Juni 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08F14/18G03C1/73
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- E. I. du Pont de Nemours and Company
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
DuPont
US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.
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Towler, Philip Dean
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