Plasmaverarbeitungssystem und dessen Substratverarbeitungsverfahren, Plasmaunterst Tztes Cvd-System und dessen Filmabscheidungsverfahren
EP1548150
Art A1
29. Juni 2005
Anmelder: Mitsubishi Heavy Industries 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1548150
- Aktenzeichen
- EP03748631
- Anmeldetag
- 1. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 29. Juni 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/509H01L21/205H05H1/46B01J19/08H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Heavy Industries
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Heavy Industries
Japanischer Industriekonzern, der in Bereichen wie Energieerzeugung, Luft- und Raumfahrt, Schiffbau, Maschinenbau und Klimatechnik tätig ist und ein breites Spektrum an Industrieanlagen und -maschinen herstellt.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München