Verbessertes Plasma-Ätzverfahren

EP1550153 Art A2 6. Juli 2005

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION, Li, Lumin 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1550153
Aktenzeichen
EP03774602
Anmeldetag
6. Oktober 2003
Veröffentlichung
6. Juli 2005
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/311H01L21/768
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
LAM RESEARCH CORPORATION
Li, Lumin
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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