Verfahren zum Entfernen von Fotoresist
EP1550912
Art A1
6. Juli 2005
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1550912
- Aktenzeichen
- EP03720958
- Anmeldetag
- 25. April 2003
- Veröffentlichung
- 6. Juli 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/42H01L21/027H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München