Fluorierte Polymere, die zur Verwendung als Photoresists geeignet Sind, und Mikrolithographieverfahren
EP1551886
Art B1
10. September 2008
Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY, E.I. du Pont de Nemours and Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1551886
- Aktenzeichen
- EP03788676
- Anmeldetag
- 19. August 2003
- Veröffentlichung
- 10. September 2008
- Erteilung
- 10. September 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03C1/73
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- E. I. du Pont de Nemours and Company
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
E.I. du Pont de Nemours and Company - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
DuPont
US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.
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Towler, Philip Dean
London, Großbritannien
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