Zweidimensionaler Rastermagnetron zur Zerstäubung von flachen Targets

EP1553207 Art A3 7. September 2005

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1553207
Aktenzeichen: EP05000140
Anmeldetag: 5. Januar 2005
Veröffentlichung: 7. September 2005
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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