Polymere enthaltende Fotoresist-Zusammensetzungen
EP1553452
Art A2
13. Juli 2005
Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials, LLC, Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1553452
- Aktenzeichen
- EP04257948
- Anmeldetag
- 18. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 13. Juli 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Rohm and Haas Electronic Materials, LLC
Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Rohm and Haas
Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.
2.601 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Buckley, Guy Julian
Bakewell, Großbritannien
4.077
Patente gesamt
34
Fachgebiete
23
Anmelder-Länder
Schwerpunkte