Optischer Abschwächer, Strahlsystem, damit ausgerüsteter lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1555573
Art B1
13. August 2008
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1555573
- Aktenzeichen
- EP04078467
- Anmeldetag
- 21. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 13. August 2008
- Erteilung
- 13. August 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
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Vertreten von
Riemens, Roelof Harm
Rijswijk, Niederlande
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