Verwendung einer obersten Schicht auf einem Spiegel für ein Lithographiegerät, Spiegel und Lithographiegerät mit diesem sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils
EP1557844
Art A3
1. März 2006
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1557844
- Aktenzeichen
- EP04077836
- Anmeldetag
- 13. Oktober 2004
- Veröffentlichung
- 1. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G21K1/06G02B1/10G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag