Zusammensetzung zur Bildung einer Antireflexschicht für die Lithographie
EP1560070
Art B1
30. Dezember 2009
Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1560070
- Aktenzeichen
- EP03751376
- Anmeldetag
- 8. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 30. Dezember 2009
- Erteilung
- 30. Dezember 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11G03F7/09C07D251/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissan Chemical Industries, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München