T-Gate Herstellung
EP1560260
Art A1
3. August 2005
Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials, LLC, ASML Netherlands B.V., Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1560260
- Aktenzeichen
- EP05250471
- Anmeldetag
- 28. Januar 2005
- Veröffentlichung
- 3. August 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/285
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Rohm and Haas Electronic Materials, LLC
ASML Netherlands B.V.
Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. - Land
- 🇺🇸 USA
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Buckley, Guy Julian
Bakewell, Großbritannien
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