T-Gate Herstellung
EP1560260
Art A1
3. August 2005
Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials, LLC, ASML Netherlands B.V., Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1560260
- Aktenzeichen
- EP05250471
- Anmeldetag
- 28. Januar 2005
- Veröffentlichung
- 3. August 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/285
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Rohm and Haas Electronic Materials, LLC
ASML Netherlands B.V.
Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Rohm and Haas
Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.
3.294 Patente in unserer Datenbank
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Buckley, Guy Julian
Bakewell, Großbritannien
4.077
Patente gesamt
34
Fachgebiete
23
Anmelder-Länder
Schwerpunkte