Verfahren zur chemisch-mechanischen Polierung von Metalleitungen mit niedriger Konkavwölbung in der Herstellung von halbleitenden Wafern
EP1562228
Art B1
19. August 2015
Anmelder: Lantiq Deutschland GmbH, Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1562228
- Aktenzeichen
- EP05010126
- Anmeldetag
- 22. März 2001
- Veröffentlichung
- 19. August 2015
- Erteilung
- 19. August 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/321H01L21/768C09G1/02B24B49/14B24B37/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Lantiq Deutschland GmbH
Infineon Technologies AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
4.872 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Weist, Stefan
München, Deutschland
23
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Schwerpunkte
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Bickel, Michael
NoneMünchen