Schutz der fotosensitiven Schicht in der Immersionslithographie
EP1564592
Art A1
17. August 2005
Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1564592
- Aktenzeichen
- EP04290429
- Anmeldetag
- 17. Februar 2004
- Veröffentlichung
- 17. August 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09G03F7/11G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Freescale Semiconductor, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Freescale Semiconductor
Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.
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Vertreten von
Wharmby, Martin Angus
Gif-sur-Yvette, Frankreich
405
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