Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung aus Amorphem Siliziumoxid mit Niedriger Dielektrizitatskonstante und durch Dieses Verfahren Erhaltene Beschichtung aus Amorphem Siliziumoxid mit Niedriger Dielektrizitatskonstante

EP1564798 Art B1 2. August 2017

Anmelder: JGC Catalysts and Chemicals Ltd., FUJITSU LIMITED, Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1564798
Aktenzeichen: EP03758926
Anmeldetag: 27. Oktober 2003
Veröffentlichung: 2. August 2017
Erteilung: 2. August 2017
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/312C09D183/02C09D183/04H01L21/316C08G77/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: JGC Catalysts and Chemicals Ltd.
FUJITSU LIMITED
Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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