Benutzung einer Resistzusammensetzung für die Immersionslithographie und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung

EP1566693 Art B1 23. Mai 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation, FUJI PHOTO FILM CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1566693
Aktenzeichen: EP05002940
Anmeldetag: 11. Februar 2005
Veröffentlichung: 23. Mai 2018
Erteilung: 23. Mai 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

12.204 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, ursprünglich als Fuji Photo Film gegründet, heute aktiv in Fotografie, Bildgebung, medizinischer Diagnostik und Spezialchemie.

1.748 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von