Verfahren zur Herstellung einer Silizidschicht, mehrschichtige Zwischenstruktur und mehrschichtige Struktur
EP1569266
Art A2
31. August 2005
Anmelder: National University Corporation Nagoya University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1569266
- Aktenzeichen
- EP04020632
- Anmeldetag
- 31. August 2004
- Veröffentlichung
- 31. August 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/285
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National University Corporation Nagoya University
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National University Corporation Nagoya University
Japanische staatliche Universität mit umfangreicher Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin, unter anderem bekannt für Arbeiten zu LED-Technologie. Trägerin zahlreicher Patente aus Universitätsforschung in Japan.
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von Hellfeld, Axel
München, Deutschland
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