Reinigungsmittel, Verfahren zur Reinigung eines Halbleitersubstrats und Verfahren zu Herstellung von Halbleiterbauelementen
EP1569267
Art A1
31. August 2005
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1569267
- Aktenzeichen
- EP05002697
- Anmeldetag
- 9. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 31. August 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/306C11D11/00C11D3/37B08B3/08B08B1/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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