Verfahren zur Einstellung einer Gewünschten Optischen Eigenschaft eines Projektionsobjektivs sowie Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage

EP1570315 Art B1 26. Dezember 2007

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1570315
Aktenzeichen
EP03717185
Anmeldetag
17. Februar 2003
Veröffentlichung
26. Dezember 2007
Erteilung
26. Dezember 2007
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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