Schlammzusammensetzung für das Sekundärpolieren eines Siliziumwafers
EP1570512
Art B1
13. Januar 2010
Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC., Cheil Industries Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1570512
- Aktenzeichen
- EP03812702
- Anmeldetag
- 30. Juli 2003
- Veröffentlichung
- 13. Januar 2010
- Erteilung
- 13. Januar 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09G1/02H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- CHEIL INDUSTRIES INC.
Cheil Industries Inc. - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Cheil Industries Inc.
Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.
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Vertreten von
Bowman, Paul Alan
London, Großbritannien
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