Verfahren zur Herstellung einer Fotoresistzusammensetzung, Verwendung einer Filtervorrichtung, Beschichtungsvorrichtung
EP1574901
Art B1
8. Juli 2015
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1574901
- Aktenzeichen
- EP03780900
- Anmeldetag
- 18. Dezember 2003
- Veröffentlichung
- 8. Juli 2015
- Erteilung
- 8. Juli 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/16G03F7/039B01D61/58B01D69/02B01D71/26B01D71/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Liénard, Benoît
Paris, Frankreich
44
Patente gesamt
14
Fachgebiete
10
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Hart-Davis, Jason
NoneParis
-
Portal, Gérard
NoneParis