Lithographischer Apparat mit einem radialen Polarisator
EP1574904
Art B1
11. Juni 2008
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1574904
- Aktenzeichen
- EP04251329
- Anmeldetag
- 8. März 2004
- Veröffentlichung
- 11. Juni 2008
- Erteilung
- 11. Juni 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B5/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon