Verfahren zur Verringerung der Musterdeformation und des Fotoresist-Poisoning bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen
EP1576657
Art B1
13. Januar 2010
Anmelder: Globalfoundries Inc., GlobalFoundries, Inc., ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇰🇾
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1576657
- Aktenzeichen
- EP03772065
- Anmeldetag
- 29. Juli 2003
- Veröffentlichung
- 13. Januar 2010
- Erteilung
- 13. Januar 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/033H01L21/3213
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Globalfoundries Inc.
GlobalFoundries, Inc.
ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
ADVANCED MICRO DEVICES INC. - Land
- 🇰🇾 KY
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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Vertreten von
Wright, Hugh Ronald
London, Großbritannien
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8
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