Herstellung einer Anti-Reflektionsschicht auf eine Low-K Dielektrische Schicht
EP1576664
Art A1
21. September 2005
Anmelder: GLOBALFOUNDRIES Inc., ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇰🇾
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1576664
- Aktenzeichen
- EP03781760
- Anmeldetag
- 6. November 2003
- Veröffentlichung
- 21. September 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768H01L21/314
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- GLOBALFOUNDRIES Inc.
ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
ADVANCED MICRO DEVICES INC. - Land
- 🇰🇾 KY
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
1.708 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Schuster, Thomas
München, Deutschland
338
Patente gesamt
32
Fachgebiete
17
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB
NoneMünchen
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München