Verfahren zur Herstellung von Justiermarkierungen für Doppel-Gate SOI
Anmelder: NXP B.V., IMEC, Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum, Koninklijke Philips Electronics, N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1577946
- Aktenzeichen
- EP05003845
- Anmeldetag
- 23. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 25. Januar 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/544
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NXP B.V.
IMEC
Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum
Koninklijke Philips Electronics, N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.
7.985 Patente in unserer Datenbank
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
2.648 Patente in unserer Datenbank
Niederländisches Technologieunternehmen mit Sitz in Amsterdam, spezialisiert auf Medizintechnik, Diagnosegeräte, Patientenüberwachung sowie Gesundheits- und Wellnessprodukte.
45.201 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
-
Bird, Ariane
NoneHeverlee