Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung eines Plasmas in einem Materialbearbeitungssystem

EP1579470 Art A2 28. September 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1579470
Aktenzeichen: EP03799732
Anmeldetag: 25. November 2003
Veröffentlichung: 28. September 2005
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/32G06K19/077G06K7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Software & Datenverarbeitung

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