Nicht-Lithographisches Verfahren um Strukturbereiche für Plasma- und/oder Ionenimplantationsbehandlung auf einem Halbleiterwafer zu definieren
EP1582922
Art B1
26. November 2008
Anmelder: STMicroelectronics Srl, STMicroelectronics S.r.l. 🇮🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1582922
- Aktenzeichen
- EP04425243
- Anmeldetag
- 1. April 2004
- Veröffentlichung
- 26. November 2008
- Erteilung
- 26. November 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- STMicroelectronics Srl
STMicroelectronics S.r.l. - Land
- 🇮🇹 Italien
🇨🇭
STMicroelectronics International
Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.
3.785 Patente in unserer Datenbank
🇮🇹
STMicroelectronics Italy
Italienische Konzerngesellschaft des schweizerisch-französischen Halbleiterherstellers STMicroelectronics. Entwickelt und fertigt Halbleiterkomponenten für Automobil-, Industrie- und Konsumelektronik.
2.334 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kraus, Jürgen Helmut
München, Deutschland
63
Patente gesamt
18
Fachgebiete
9
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Pellegri, Alberto
NoneMilano