Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1582928
Art B1
27. Februar 2008
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1582928
- Aktenzeichen
- EP05251565
- Anmeldetag
- 15. März 2005
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2008
- Erteilung
- 27. Februar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Roberts, Peter David
Manchester, Großbritannien
706
Patente gesamt
30
Fachgebiete
15
Anmelder-Länder
Schwerpunkte