Mask, Verfahren zu seiner Herstellung, Verfahren zur Herstellung eines Dünnschichtmusters, Verfahren zur Herstellung einer elektro-optischen Vorrichtung und elektronisches Apparat
EP1584703
Art A1
12. Oktober 2005
Anmelder: Seiko Epson Corporation, SEIKO EPSON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1584703
- Aktenzeichen
- EP05006227
- Anmeldetag
- 22. März 2005
- Veröffentlichung
- 12. Oktober 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Seiko Epson Corporation
SEIKO EPSON CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Epson
Japanisches Unternehmen, das Drucker, Scanner, Projektoren sowie Uhrwerke und Sensortechnik entwickelt und herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München