Antireflexbeschichtung im sichtbaren Bereich für Lichteinfall in weitem Winkel
EP1584954
Art B1
24. August 2011
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1584954
- Aktenzeichen
- EP05251962
- Anmeldetag
- 30. März 2005
- Veröffentlichung
- 24. August 2011
- Erteilung
- 24. August 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B1/11G02B27/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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Vertreten von
Brown, Kenneth Richard
London, Großbritannien
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