Verfahren und Vorrichtung zum Verwenden einer Beschichtung Zumerweiterten Halten eines Halbleitersubstrats Während Hochdruckverarbeitung

EP1590827 Art A2 2. November 2005

Anmelder: Tokyo Electron Ltd., Supercritical Systems Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1590827
Aktenzeichen
EP04708980
Anmeldetag
6. Februar 2004
Veröffentlichung
2. November 2005
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/20H01L21/68H01J37/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Tokyo Electron Ltd.
Supercritical Systems Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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