Kissen zum chemisch-mechanischen Polieren, Herstellungsverfahren dafür und chemisch-mechanisches Polierverfahren für Halbleiterwafer
EP1591201
Art B1
15. November 2006
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1591201
- Aktenzeichen
- EP05009217
- Anmeldetag
- 27. April 2005
- Veröffentlichung
- 15. November 2006
- Erteilung
- 15. November 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B24B37/04B24D18/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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